信越化学股份有限公司近日公布,已经将利用氮化镓(GaN)的半导体系体例造基板(晶圆)的直径扩展至300毫米,是传统产物的1.5倍,并已经最先供给样品。实现高质量厚膜GaN外延生长。它将作为数据中央(DC)中利用的下一代半导体的制造质料提供,数据中央的需求正于不停增长。信越化学将按照环境举行批量出产。

当提高于晶体上生长晶体薄膜的外延生长历程的效率时,增长衬底的尺寸轻易发生翘曲及分裂。解决这个问题的GaN兼容衬底可以与传统硅(Si)于统一出产线上利用,是以也有望降低成本。此前,它以150毫米及200毫米直径出售,但按照客户反。龀ち300毫米直径。
2019年,信越化学得到了美国Qromis公司(加利福尼亚州Chromis)开发的专门用在GaN生长的复合质料基板的许可,该基板名为“QST基板”。QST衬底具备与GaN不异的热膨胀系数,而且可以于与尺度Si衬底不异的衬底厚度的环境下按捺外延层的翘曲及裂纹。该公司继承将使用这一特征的年夜型基板贸易化。
与传统硅器件比拟,氮化镓功率器件具备更高的开关频率及功率密度,以和更高的功率转换效率及简化的拓扑布局。消费运用(如电源适配器)及工业运用(如数据中央电源及太阳能逆变器)已经获得广泛采用。于本文中,咱们将会商一种立异要领,以扩大GaN的制造能力,以增长其运用空间,促成单片集成,并于非专用在硅的Si兼容工场中增长晶圆直径。
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